大日本印刷、中国アモイに半導体フォトマスク新工場

大日本印刷は18日、中国福建省アモイ市に、米国大手のフォトロニクス社と半導体フォトマスクを製造・販売する合弁会社を設立することで合意したと発表した。中国の半導体生産能力が2020年に世界の約20%に達する見込みがあることに対応する。新工場は18年12月に量産開始予定。
2社は計画では17年10月に合弁会社「フォトロ二クス DNP マスク アモイ」を設立する。資本金は非公表で、出資比率は大日本印刷が49.99%、米フォト社が50.01%。合弁会社の新工場には今後、5年間で1億6000万米ドルを投資する。フォトマスクは、半導体回路を転写する原板。
2社は既に台湾で合弁会社の同製品の工場を運営。今回、ロジックとメモリーの半導体両分野で需要の伸びる中国に進出を決めた。